11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）举行。上海微电子装备(集团)股份有限公司（SWEE）自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型在展会上正式亮相，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%，形成自主技术可控、本地化发展落地、产业链安全可靠的核心优势，可全面支撑半导体、泛半导体产业发展需求。
据了解，SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。公司始终锚定产业技术前沿，坚持自主创新深耕与产业链协同联动并行，与上下游供应链、行业伙伴深度协作，携手构建开放良性的半导体产业生态，在实现自身稳健运营的同时，持续为我国半导体产业高质量升级提供核心装备支撑。
