11月4日，以“显示无处不在·智慧改变视界”为主题的2026世界显示产业创新发展大会在成都空港国际会议中心举办。大会开幕式上，包含Micro-LED激光巨量转移设备、G8.6线性蒸发源、G6大Mask投影扫描曝光机、18μm超薄精密金属掩膜版（FMM）、超大尺寸LCD偏光片等在内的五大新型显示核心配套突破性成果集中亮相。这些成果精准聚焦显示产业发展的关键环节，集中彰显我国显示产业上游的硬核实力。
五大产品中，辰显光电联合大族尚立开发的Micro LED激光巨量转移设备，融合深紫外激光匀化与AI视觉算法，可实现百万级芯片高效、无损转移，目前已实现批量交付；上海升翕的G8.6线性蒸发源，是在G8.6代AMOLED量产线上实现批量交付与规模化应用的国产核心装备，首批订单规模达6.55亿元，并与京东方G8.6代AMOLED量产线全面配套，实现该细分领域的重要突破；上海玻纳刻拥有自主知识产权的国内首台G6大Mask投影扫描曝光机，首创全气浮传输结构，关键指标对标国际先进水平，已通过国内头部面板企业量产验证；众凌科技的18μm超薄精密金属掩膜版（FMM），首创全国产超纯超薄材料与高精微孔刻蚀控型技术，实现高PPI与高开口率兼得，目前已稳定量产；恒美光电的130英寸LCD偏光片，创新预成型膜工艺，跨越了传统工艺116英寸的尺寸上限，为破解超大尺寸偏光片制造的制约提供可行方案。
五大成果所蕴含的技术共识与创新思路，将为显示产业上游发展提供有力支撑。专家表示，五大成果无一不是产业链上下游对齐、精准聚焦上游关键薄弱环节、联合攻关的结果。这说明我国新型显示产业链已经由过去的点状模式向链式模式全面升级，产业链各环节之间基本形成了较强的要素关联性、动态延展性和系统协同性，我国新型显示产业达到了“以点带面、联动共生”的产业链生态。
世界显示产业创新发展大会将继续促进产业链上下游企业携手合作，汇聚全球显示产业智慧，加快核心装备与关键材料成果的产业化应用，激发新型显示产业增长活力。
