HBM也要散热了:SK海力士推进新技术 嵌入元件可降低30%热阻

据韩媒ETNews报道,业内人士21日透露,SK海力士近期已与国内外材料、零部件和设备等上游合作伙伴(SoBuJang)接洽,推进iHBM技术研发并做好量产准备。据悉,双方讨论了iHBM的实际产品应用和量产计划。

据韩媒ETNews报道,业内人士21日透露,SK海力士近期已与国内外材料、零部件和设备等上游合作伙伴(SoBuJang)接洽,推进iHBM技术研发并做好量产准备。据悉,双方讨论了iHBM的实际产品应用和量产计划。

iHBM为SK海力士下一代高带宽内存(HBM)技术,旨在降低HBM的发热量,是SK海力士在竞争激烈的HBM市场中保持领先地位的战略举措。

一位熟悉情况的SK海力士合作伙伴公司负责人表示:“SK海力士正在探索与上游”铲子“公司合作,以将iHBM应用于实际工艺流程并实现商业化。”他还补充道:“他们似乎已经在评估实际量产可行性的同时,着手进行商业化进程。”

伴随AI算力需求持续激增,HBM不断通过增加堆叠层数、提升运行速度来实现性能的迭代升级,同时也带来发热量攀升的难题。因此,有效控制连接HBM与GPU的物理互联通道产生的热量,正成为下一代HBM技术竞争力的核心。

iHBM由SK海力士在今年5月26日发布,特点在于从结构层面根本性解决上述散热难题。

传统HBM依赖热量经由核心芯片(Core Die)向外传导的间接散热方式。iHBM的核心在于,直接在热量最为集中的D2D PHY区域内嵌入热控元件(ICE)——绝缘、高导热性的硅基材料,构建专用热量排出通道(Heat Path)。相较传统方案,该技术能将HBM热阻(Thermal Resistance)降低30%以上,同时确保产品在高温、高负载环境下的稳定运行特性。

据SK海力士介绍,该技术在量产可行性方面也具备显著优势。产品采用经市场充分验证的先进MR-MUF晶圆级封装(WLP)工艺,可实现稳定规模化量产。此外,该技术与客户现有系统级封装(SiP)环境具备高度设计兼容性,客户无需进行大规模设计改动,即可直接部署,从而有效降低了实际导入门槛。

SK海力士计划将iHBM技术应用于HBM5等下一代产品,以满足高性能计算(HPC)、AI数据中心等超高度集成、高带宽应用场景的严苛散热管控需求。

根据其路线图,HBM5预计将于2029年发布。目前,该公司正在使用台积电的先进封装技术CoWoS对HBM5进行验证。

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